매일안전신문 - 삼성전자, 세계 최대 규모 반도체공장 평택 2라인 가동...D램, 낸드, 파운드리 생산

[매일안전신문] 삼성전자가 업계 최초로 EUV(극자외선) 공정을 적용한 첨단 3세대 10나노급(1z) LPDDR5 모바일 D램 생산에 본격 나섰다. 세계 최대 규모의 반도체 공장인 평택 2라인이 가동을 시작함으로써 고용 창출에 기여할 전망이다.

30일 삼성전자에 따르면 연면적이 12만8900㎡(축구장 16개 크기)에 달하는 규모의 평택 2라인은 D램, 낸드, 파운드리까지 생산하는 세계 최대 규모의 반도체 생산라인이다.

평택 2라인은 이번 D램 양산을 시작으로 차세대 V낸드, 초미세 파운드리 제품까지 생산하는 첨단 복합 생산라인으로 만들어져 4차 산업 혁명 시대의 반도체 초격차 달성을 위한 핵심적인 역할을 할 것으로 보인다.

삼성전자는 평택 2라인에 5월 EUV 기반 최첨단 제품 수요에 대비하기 위한 파운드리 생산라인을, 6월 첨단 V낸드 수요 확대에 대응하기 위한 낸드플래시 생산라인도 착공했다. 두 라인은 2021년 하반기 본격 가동할 예정이다.

삼성전자는 2018년 8월 발표한 180조원 투자, 4만명 고용 계획의 일환으로 평택 2라인을 건설했다. 국내외적으로 어려운 여건 속에서도 신규투자와 채용을 적극 확대하는 삼성전자의 면모를 그대로 보여준다.

평택 1라인에 이어 이번 평택 2라인에도 총 30조원 이상의 대규모 투자가 집행된다. 직접 고용 인력은 약 4000명으로 예상된다. 협력사 인력과 건설인력을 포함하면 약 3만명 이상의 고용을 창출할 것으로 기대된다.

이번에 평택 2라인에서 출하된 16Gb LPDDR5 모바일 D램은 메모리 양산제품으로는 처음 EUV 공정이 적용됐다. 역대 최대 용량과 최고 속도를 동시에 구현한 업계 최초의 3세대 10나노(1z) LPDDR5 제품이다.

삼성전자는 2020년 2월 2세대 10나노급(1y) 공정으로 역대 최대 용량의 16GB(기가바이트) LPDDR5 D램을 양산한 지 6개월 만에 차세대 1z 공정까지 프리미엄 모바일 D램 라인업을 강화했다.

이번 제품은 기존 플래그십 스마트폰용 12Gb 모바일 D램(LPDDR5, 5500Mb/s)보다 16% 빠른 6400Mb/s의 동작 속도(64핀(x64, JEDEC 규격)으로 구성되는 패키지 기준 최대 51.2GB/s)를 구현했다. 16GB 제품 기준으로 1초당 풀HD급 영화(5GB) 약 10편에 해당하는 51.2GB(기가바이트)를 처리할 수 있다.

또한 16Gb LPDDR5 모바일 D램은 8개의 칩만으로 16GB 제품을 구성할 수 있어 기존 제품(12Gb 칩 8개 + 8Gb 칩 4개)대비 30% 더 얇은 패키지를 만들 수 있다. 이를 통해 멀티카메라, 5G 등 부품수가 많은 스마트폰과 폴더블폰 같이 두께가 중요한 제품에 최적의 솔루션을 제공할 수 있다.

삼성전자는 글로벌 스마트폰 업체들에 차세대 1z 16GB 모바일 D램을 업계 유일하게 제공함으로써 2021년 출시되는 AI기능이 더욱 강화된 5G 플래그십 스마트폰 시장을 선점할 계획이다. 또 고온 신뢰성도 확보해 전장용 제품까지 사용처를 확대해 나갈 예정이다.

삼성전자 메모리사업부 DRAM개발실 이정배 부사장은 “프리미엄 D램 라인업을 지속 확대해 고객 요구에 더욱 빠르게 대응하고 메모리 시장 확대에 기여해 나갈 것”이라고 말했다. /신윤희 기자

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